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PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積參考價：面議

參考價：面議型號：
PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積是一款1200℃等離子增強(qiáng)混合物理化學(xué)氣相沉積（HPCVD)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)源（帶自動匹配功能）、上游原位蒸發(fā)舟、4通道質(zhì)子流量計...
型號：品牌：所在地：上海市 對比

PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積

2025/3/13 13:26:312468
CVD氣相沉積參考價：面議

參考價：面議型號：
CVD（ChemicalVaporDeposition，化學(xué)氣相沉積）是一種用于薄膜沉積的技術(shù)。它通過將氣態(tài)化學(xué)前驅(qū)體反應(yīng)成固態(tài)沉積物，在基材表面形成薄膜。CV...
型號：品牌：所在地：上海市 對比

CVD氣相沉積PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積

2025/3/13 13:24:031740
雙通道ALD管式爐系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：ALD-1200X-4
雙通道ALD管式爐系統(tǒng)ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng)，包含用于原子層沉積的2個ALD進(jìn)氣閥、1個精密液體氣相發(fā)CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道...
型號： ALD-1200X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐管式爐合肥科晶CVDPECVD

2025/3/13 12:43:135947
大面積雙管石墨烯生長爐參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-1100X-III-D11
GSL-1100X-III-D11是一款大面積雙管石墨烯生長爐，其最高溫度可以達(dá)到1100℃。特殊的雙管設(shè)計，法在箔材上大面積生長材料（面積：~7000 cm^...
型號： GSL-1100X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐CVDPECVD合肥科晶管式爐

2025/3/13 12:40:522556
1200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：OTF-1200X-II-PEC4
1200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)，OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等離子增強(qiáng)混合物理化學(xué)氣相沉積（HPCVD)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)源（帶自...
型號： OTF-1200X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐CVDPECVD管式爐合肥科晶

2025/3/13 12:38:333455
1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-1700X-HVC
GSL-1700X-HVC是一款CE認(rèn)證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組度可達(dá)1600℃，極限真空度可達(dá) to 10^-5 tor...
型號： GSL-1700X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐CVDPEVCD管式爐合肥科晶

2025/3/13 12:36:282951
1200℃三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：OTF-1200X-80-III-F3LV
OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE認(rèn)證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其管徑為80mm，采用機(jī)械泵，路浮子流量供氣系統(tǒng)組成，其真空度可達(dá)到 10-2...
型號： OTF-1200X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐合肥科晶CVD

2025/3/13 12:34:432638